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Plateforme de Nanostructuration de l'ISMO Équipement mutualisé de l'Université Paris-Saclay

Dual BEAM

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Un microscope « dual beam » dispose de deux colonnes optique électronique, l’une dédié aux électrons l’autre aux ions. Lorsque l’intensité du faisceau d’électrons est grande devant celle du faisceau d’ions, en plaçant la zone d’intérêt de l’échantillon à intersections des deux faisceaux, on va pouvoir suivre le processus de gravure. Les images obtenues sont particulièrement bruitées du fait des électrons secondaires produits par le faisceau d’ions lors de la gravure. Attention lors des mesures ou interprétations car cette géométrie implique que les images obtenue avec le faisceau d’électron correspondent à une surface observée avec un angle de 60°.

Exemple de visualisation du procédé de gravure par faisceau d’ions. Le temps réel est de 7 min .

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