L’écriture directe de nanostructure avec une largeur de trait de l’ordre de la centaine de nanomètre fait partie des procédés de synthèse les plus intéressant, disponible sur ce microscope dual-beam. L’énergie apportée par un faisceau d’électrons ou d’ions focalisés, est utilisée pour induire la décomposition des molécules d’un précurseur gazeux organométallique injecté au voisinage de la surface.
Le « nano-dépôt » est ainsi obtenu le long du trajet suivit par le faisceau d’électrons ou d’ions lorsque les conditions de flux et de pression partiel du gaz précurseur sont réunies. C’est un outils idéal pour modifier les nanostructures ou les relier aux monde macroscopique. Suivant la nature du faisceau utilisé, on retrouve ces méthodes de dépôt sous les sigles FIBID (Focus Ions Beam Induced Deposition) ou FEBID ( Focus Electron Beam Induced Deposition) .
Précurseurs disponibles sur notre systèmes :
| Éléments déposés | Précurseur | Propriétées |
|---|---|---|
| Tungsten - Carbon 70%-30% | Tungsten hexacarbonyl W(CO)6 | Supra Tc ∈ [4;5] °K Hcrit ~ 10 Tesla |
| Platine - Carbon 70%-30% | (CH5)5Pt(CH3)3 | Métallique |
| SiOx | 2, 4, 6, 8, 10-pentamethyl-cyclopenta-siloxane C5H20O5Si5 | Isolant |
